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“光线跟踪阴影参数”卷展栏

创建灯光。 >“常规参数”卷展栏 >选中的”光线跟踪阴影”>“光线跟踪阴影参数”卷展栏

光线跟踪阴影

当已选择光线跟踪作为灯光的阴影生成技术时,显示“光线跟踪阴影参数”卷展栏。 可以在“常规参数”卷展栏中选择此选项。

为了更好的控制光线跟踪阴影,请使用“高级光线跟踪阴影

界面

光线偏移—光线跟踪偏移面向或背离阴影投射对象移动阴影。

如果“偏移”值太低,阴影可能在无法到达的地方“泄露”,从而生成叠纹图案或在网格上生成不合适的黑色区域。 如果偏移值太高,阴影可能从对象中“分离”。 在任何一方向上如果偏移值是极值,则阴影根本不可能被渲染。

双面阴影—启用此选项后,计算阴影时背面将不被忽略。 从内部看到的对象不由外部的灯光照亮。 这样将花费更多渲染时间。 禁用该选项后,将忽略背面。 渲染速度更快,但外部灯光将照亮对象的内部。 默认设置为启用。

如果未选定“双面阴影”,则切片球体内的面并不投射阴影。

最大四元树深度—使用光线跟踪器调整四元树的深度。 增大四元树深度值可以缩短光线跟踪时间,但却以占用内存为代价。 然而,使用这个深度值虽然可以改善性能,但是却要花费大量的时间才能生成四元树本身。 这取决于场景的几何体。 默认设置为 7。

提示: 泛光灯最多可以生成六个四元树,因此它们生成光线跟踪阴影的速度比聚光灯生成阴影的速度慢。 避免将光线跟踪阴影与泛光灯一起使用,除非场景中有这样的要求。


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